Главная >> Каталог >> Фольгированные материалы для производства ПП >> Rogers Corp. >> Керамические подложки для силовой электроники
Керамические подложки для силовой электроники
Высокотемпературные и высоковольтные подложки curamik® состоят из чистой меди, соединенной с керамикой на основе оксида алюминия (Al2O3), нитрида алюминия (AlN), нитрида кремния (Si3N4) или оксида алюминия (Al2O3) с добавлением оксида циркония (ZrO2) - HPS. Для соединения меди с основой используются две технологии. DBC (прямое нанесение меди) – высокотемпературный процесс плавления и диффузии, в ходе которого чистая подготовленная медь «приклеивается» к керамической основе, а также AMB (пайка активным металлом) – высокотемпературный процесс, в ходе которого жидкая медь направляется на керамическую основу. Высокая теплопроводность Al2O3 (24 Вт/мК), AlN (170 Вт/мК) и Si3N4 (90 Вт/мК), также как высокая теплоемкость и теплопроводность слоя меди большой толщины (127 - 800 мкм), делают такие подложки незаменимыми для силовой электроники. Механическая нагрузка на кремниевые чипы, монтируемые непосредственно на подложку, очень мала, поскольку коэффициенты теплового расширения керамических подложек и кремниевых компонентов, очень близки, в отличие от подложек на металлической или пластиковой основе. | Компания Rogers Corp. выпускает подложки марки curamik, рассчитанные на высокие температуры и напряжения, стандартного размера 5"´7" (127´178 мм) [5,5"´7,5" (138´190,5 мм)]. Для более эффективной сборки компоненты могут монтироваться на подложку стандартного формата с последующим разделением на отдельные детали. Также подложки могут быть поставлены разделенными на части необходимого формата для непосредственной сборки единичных изделий. Преимущества: // отличная теплопроводность и термостойкость для высокотемпературных устройств высокой производительности; // высокое значение напряжения пробоя; // отличное теплораспределение; // близкие значения коэффициентов теплового расширения кремниевых чипов и подложки; // эффективность обработки подложек как стандартных размеров, так и разделенных на части. |
Обзор характеристик:
КЕРАМИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ curamik®
Технические характеристики:
Доступные материалы |
||
AI2O3 |
Оксид алюминия |
|
HPS* |
Оксид алюминия (с добавлением 9% ZrO2) |
|
Si3N4 |
Нитрид кремния |
|
AIN |
Нитрид алюминия |
*В некоторых странах на изделия из HPS действуют патентные ограничения.
Теплопроводность |
|
AI203 |
24 Вт/мК при 20°C |
HPS |
26 Вт/мК при 20°C |
Si3N4 |
90 Вт/мК при 20°C |
AIN |
170 Вт/мК при 20°C |
Доступные сочетания толщин, технология DBC
Толщина керамики, мм
|
толщина меди, мм |
||||||
|
0,127 |
0,2 |
0,25 |
0,3 |
0,4 |
0,5 |
|
0,25 |
|
HPS |
HPS |
HPS |
|
|
|
0,32 |
AI203 |
AI203 |
AI203 HPS |
AI203 HPS |
HPS |
HPS |
|
0,38 |
AI203 |
AI203 |
AI203 |
AI203 |
|
|
|
0,5 |
AI203 |
AI203 |
AI203 |
AI203 |
AI203 |
|
|
0,63 |
AI203 AIN |
AI203 AIN |
AI203 AIN |
AI203 AIN |
|
|
|
1,00 |
AI203 AIN |
AI203 AIN |
AI203 AIN |
AI203 AIN |
|
|
Доступные сочетания толщин, технология AMB
Толщина керамики, мм
|
толщина меди, мм |
|||
|
0,3 |
0,5 |
0,8 |
|
0,25 |
Si3N4 |
Si3N4 |
Si3N4 |
|
0,32 |
Si3N4 |
Si3N4 |
Si3N4 |
|
Примечание: другие толщины меди по запросу. |
Коэффициент теплового расширения |
|
AI203 |
6,8 ppm/K при 20°C - 300°C |
HPS |
7,1 ppm/K при 20°C - 300°C |
Si3N4 |
2,5 ppm/K при 20°C - 300°C |
AIN |
4,7 ppm/K при 20°C - 300°C |
Размеры |
|
||||||
Стандартный формат |
138 мм x 190,5 мм ± 1,5% |
|
|||||
Макс. полезная область |
127 мм x 178 мм ± 0,05% |
|
|||||
Усилие на отрыв меди |
> 4,0 Н/мм при 50 мм/мин DBC медь толщиной 0,3 мм |
|
|||||
> 10,0 Н/мм при 50 мм/мин AMB медь толщиной 0,5 мм |
|
||||||
Типовая ширина/зазор между проводниками |
|
||||||
Толщина меди |
DBC |
AMB |
|
||||
0,127 мм |
0,35 мм |
– |
|||||
0,2 мм |
0,4 мм |
– |
|||||
0,25 мм |
0,45 мм |
– |
|||||
0,3 мм |
0,5 мм |
0,5 мм |
|||||
0,4 мм |
0,6 мм |
– |
|||||
0,5 мм |
0,7 мм |
0,8 мм |
|||||
0,6 мм |
– |
– |
|||||
0,8 мм |
– |
1,0 мм |
|||||
Варианты поверхности |
|
||||||
Плакирование |
Электролитический Ni: 3 мкм - 7 мкм (8% ± 2% P) по всей поверхности |
||||||
|
Электролитическое Ag: 0,1 мкм - 0,6 мкм по всей поверхности |
||||||
|
Электролитическое Au, класс A: 0,01 - 0,05 мкм по всей поверхности на Ni |
||||||
|
Электролитическое Au, класс B: 0,03 - 0,13 мкм по всей поверхности на Ni |
||||||
Шероховатость* |
Ra < 3 мкм; Rz < 16 мкм; Rмакс. = 50 мкм |
||||||
* Меньная шероховатость по запросу |
|