Главная Каталог О нас Поддержка Контакты

Керамические подложки для силовой электроники

Высокотемпературные и высоковольтные подложки curamik® состоят из чистой меди, соединенной с керамикой на основе оксида алюминия (Al2O3), нитрида алюминия (AlN), нитрида кремния (Si3N4) или оксида алюминия (Al2O3) с добавлением оксида циркония (ZrO2) - HPS.

Для соединения меди с основой используются две технологии. DBC (прямое нанесение меди) – высокотемпературный процесс плавления и диффузии, в ходе которого чистая подготовленная медь «приклеивается» к керамической основе, а также AMB (пайка активным металлом) – высокотемпературный процесс, в ходе которого жидкая медь направляется на керамическую основу.

Высокая теплопроводность Al2O3 (24 Вт/мК), AlN (170 Вт/мК) и Si3N4 (90 Вт/мК), также как высокая теплоемкость и теплопроводность слоя меди большой толщины (127 - 800 мкм), делают такие подложки незаменимыми для силовой электроники. Механическая нагрузка на кремниевые чипы, монтируемые непосредственно на подложку, очень мала, поскольку коэффициенты теплового расширения керамических подложек и кремниевых компонентов, очень близки, в отличие от подложек на металлической или пластиковой основе.

Компания Rogers Corp. выпускает подложки марки curamik, рассчитанные на высокие температуры и напряжения, стандартного размера 5"´7" (127´178 мм) [5,5"´7,5" (138´190,5 мм)]. Для более эффективной сборки компоненты могут монтироваться на подложку стандартного формата с последующим разделением на отдельные детали. Также подложки могут быть поставлены разделенными на части необходимого формата для непосредственной сборки единичных изделий.

Преимущества:

// отличная теплопроводность и термостойкость для высокотемпературных устройств высокой производительности;

// высокое значение напряжения пробоя;

// отличное теплораспределение;

// близкие значения коэффициентов теплового расширения кремниевых чипов и подложки;

// эффективность обработки подложек как стандартных размеров, так и разделенных на части.

Обзор характеристик:

КЕРАМИЧЕСКИЕ ПОДЛОЖКИ curamik®

Технические характеристики:

Доступные материалы

AI2O3

Оксид алюминия

curamik® Power

HPS*        

Оксид алюминия (с добавлением 9% ZrO2)

curamik® Power Plus

Si3N4       

Нитрид кремния

curamik® Performance

AIN          

Нитрид алюминия

curamik® Thermal

*В некоторых странах на изделия из HPS действуют патентные ограничения.

Теплопроводность

AI203

24 Вт/мК при 20°C

HPS

26 Вт/мК при 20°C

Si3N4

90 Вт/мК при 20°C

AIN

170 Вт/мК при 20°C

Доступные сочетания толщин, технология DBC

Толщина керамики, мм

 

 

 

 

 

 

 

 

толщина меди, мм

 

0,127

0,2

0,25

0,3

0,4

0,5

0,25

 

HPS

HPS

HPS

 

 

0,32

AI203

AI203
HPS

AI203

HPS

AI203

HPS

HPS

HPS

0,38

AI203

AI203

AI203

AI203

 

 

0,5

AI203

AI203

AI203

AI203

AI203

 

0,63

AI203 AIN

AI203

AIN

AI203

AIN

AI203

AIN

 

 

1,00

AI203 AIN

AI203

AIN

AI203

AIN

AI203

AIN

 

 

Доступные сочетания толщин, технология AMB

Толщина керамики, мм

 

 

 

 

 

толщина меди, мм

 

0,3

0,5

0,8

0,25

Si3N4

Si3N4

Si3N4

0,32

Si3N4

Si3N4

Si3N4

Примечание: другие толщины меди по запросу.

 

Коэффициент теплового расширения

AI203

6,8 ppm/K при 20°C - 300°C

HPS

7,1 ppm/K при 20°C - 300°C

Si3N4

2,5 ppm/K при 20°C - 300°C

AIN

4,7 ppm/K при 20°C - 300°C

 

Размеры

 

Стандартный формат

138 мм x 190,5 мм ± 1,5%

 

Макс. полезная область

127 мм x 178 мм ± 0,05%

 

Усилие на отрыв меди

> 4,0 Н/мм при 50 мм/мин

DBC медь толщиной 0,3 мм

 

> 10,0 Н/мм при 50 мм/мин

AMB медь толщиной 0,5 мм

 

 

Типовая ширина/зазор между проводниками

 

Толщина меди

DBC

AMB

 

 

 

 

 

 

 

 

0,127 мм

0,35 мм

0,2 мм

0,4 мм

0,25 мм

0,45 мм

0,3 мм

0,5 мм

0,5 мм

0,4 мм

0,6 мм

0,5 мм

0,7 мм

0,8 мм

0,6 мм

0,8 мм

1,0 мм

 

Варианты поверхности

 

Плакирование

Электролитический Ni: 3 мкм - 7 мкм (8% ± 2% P) по всей поверхности

 

Электролитическое Ag: 0,1 мкм - 0,6 мкм по всей поверхности

 

Электролитическое Au, класс A: 0,01 - 0,05 мкм по всей поверхности на Ni

 

Электролитическое Au, класс B: 0,03 - 0,13 мкм по всей поверхности на Ni

Шероховатость*

Ra < 3 мкм; Rz < 16 мкм; Rмакс. = 50 мкм

* Меньная шероховатость по запросу

 

 

Материалы